高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長(cháng)、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣，為了提高硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個(gè)議題。通過(guò)對本裝置的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時(shí)，水分也小于1ppm時(shí)，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就提高了單晶的使用壽命并能達到要求，贏(yíng)得客戶(hù)的滿(mǎn)意和市場(chǎng)的需求。由于一般液氬汽化后未經(jīng)過(guò)純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時(shí)氣體供應商提供的氬氣超過(guò)了此范圍，但使用氬氣的客戶(hù)確不知道其質(zhì)量，所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何，只要經(jīng)過(guò)純化裝置的處理后，進(jìn)入拉晶爐的氬氣，純度始終是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，這樣穩定的氬氣對生產(chǎn)晶體質(zhì)量是有保證的。